無塵室常用名詞介紹(潔淨室潔淨度,無塵淨化工程)
1、無塵室定義(yi) ：無塵室是一個(ge) 為(wei) 了對空間內(nei) 空氣中的微粒做控製，所建造的特殊封閉性建築。一般而言，無塵室也會(hui) 對溫濕度、氣流運動模式、與(yu) 震動噪音等環境因素做控製。
2、微粒控製：無塵室微粒控製的第一步，是把室內(nei) 微粒對製程影響的程度做完整分析，然後針對分析結果，訂定恰當的微粒控製方式與(yu) 無塵室管理模式，才能有效率的控製微粒汙染。在做微粒影響分析時，必須特別注意數據的量化，也就是粒徑與(yu) 其數量對製程的影響，才是有用的數據。
3、外來汙染源：從(cong) 無塵室外進入係統的汙染源，外來汙染源主要是由空調通風係統所導入，另外門、窗、牆壁裂縫等也是外來汙染源的成因。
4、內(nei) 部汙染源：無塵室內(nei) 部產(chan) 生汙染的來源，一般是製程機器與(yu) 操作員工，最嚴(yan) 重的內(nei) 部汙染源一般是操作員工。
5、隔離：隔離是汙染控製的一種觀念，也就是讓汙染源隔絕在無塵區域之外。這種觀念多應用在高潔淨度的無塵環境，例如Class100，Class10，Class1等高濾網覆蓋率的無塵室，或是使用迷你潔淨室將機台整個(ge) 包住。
6、稀釋：稀釋是汙染控製的另一種觀念，多應用在潔淨度不高的無塵室。例如在Class10000的無塵室，因為(wei) 換氣量不大，製程與(yu) 人員產(chan) 生的粒子就會(hui) 在室內(nei) 打轉，要比較常的時間才會(hui) 排出。因此新的幹淨空氣隻能稀釋室內(nei) 的微粒濃度，讓室內(nei) 潔淨度控製在某一等級之下就可以了，部要求把人員與(yu) 製程隔開。使用稀釋法作為(wei) 粒控製時，要特別注意本節第二條微粒影響分析的正確性，能掌握微粒的產(chan) 生速率，才能有效的稀釋微粒。
7、氣流模式：指的是流場型態，氣流分布，氣流的流向等性質。由於(yu) 微粒的移除完全掌握在氣流的模式，因此愈潔淨的無塵室或是無塵區域，對氣流模式的掌控就愈重視。基本上要先掌握氣流模式，才能掌握潔淨度。
8、單一流向型氣流：氣流以同一個(ge) 方向移動，這種無塵室稱為(wei) 單一流向型無塵室，以前稱為(wei) 層流型無塵室，定義(yi) 並無多大改變。高潔淨度無塵室需要單一流向型氣流。
9、非單一流向型氣流：氣流方向不受控製，就是所謂的亂(luan) 流型無塵室，潔淨度較低的無塵室都是用非單一流向型氣流以節省成本。
10、As-built cleanroom（剛完工的無塵室）:已經完成且可以操作，所有相關(guan) 支持設施皆已完成的潔淨室，但並沒有設備及操作設備的人員。
11、At-rest cleanroom（準備中的無塵室）:已經完成且可以操作，所有相關(guan) 支持設施皆已動作的無塵室，設備已加載並可以操作或已在運轉，1如所指定，但沒有操作設備的人員。
12、Operational cleanroom（操作中的無塵室設施）：一個(ge) 已在正常運轉的無塵室，所有相關(guan) 支持設施皆已動作，設備及人員皆已加載，運轉狀況可以呈現和達到其正常的功能。
無塵工程檢測是許多行業(ye) 均需要應用的領域，許多產(chan) 品在高潔淨度的潔淨室生產(chan) 線完成組裝或者半成品時都需要進行QC檢測，為(wei) 了避免產(chan) 品在檢測環節受到二次汙染，QC檢測工作就必須在無塵室之中進行。常見的應用行業(ye) 有電子、液晶顯示屏、電腦配件、製藥、生物製品、食品、飲料等要求較高的行業(ye) 。
無塵檢測室與(yu) 普通傳(chuan) 統潔淨室有何區別?檢測功能室與(yu) 普通傳(chuan) 統潔淨室沒什麽(me) 區別，但是需要根據每個(ge) 行業(ye) 產(chan) 品的特性不同而采用不同類型的潔淨室係統工作。在生物製品、製藥、食品、飲料製造業(ye) ，常用的是生物潔淨室。而電子、精密儀(yi) 器製造等電子工業(ye) 類產(chan) 品則對環境溫濕度要求較為(wei) 嚴(yan) 格，我們(men) 一般采用工業(ye) 潔淨室的類型。
無塵淨化工程的建造主要用於(yu) 控製產(chan) 品所接觸的大氣潔淨度及溫濕度，使產(chan) 品能在一個(ge) 良好之環境空間中生產(chan) 、製造，此空間我們(men) 稱之為(wei) 無塵室。按照國際慣例，無塵室級別主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大於(yu) 劃分標準的粒子數量來規定。也就是說所謂無塵並非100%沒有一點灰塵，而是控製在一個(ge) 非常微量的單位上。當然這個(ge) 標準中符合灰塵標準的顆粒相對於(yu) 我們(men) 常見的灰塵已經是小的微乎其微，但是對於(yu) 光學構造而言，哪怕是一點點的灰塵都會(hui) 產(chan) 生非常大的負麵影響，所以在光學構造產(chan) 品的生產(chan) 上，無塵是必然的要求。
無塵室每立方米將小於(yu) 0.3微米粒徑的微塵數量控製在3500個(ge) 以下，就達到了國際無塵標準的A級無塵室。目前應用在芯片級生產(chan) 加工的無塵標準對於(yu) 灰塵的要求高於(yu) A級，這樣的高標主要被應用在一些等級較高芯片生產(chan) 上。微塵數量被嚴(yan) 格控製在每立方米1000個(ge) 以內(nei) ，這也就是業(ye) 內(nei) 俗稱的1K級別無塵室。